荷蘭擴大光刻機出口限制 中方表示不滿

荷蘭政府9月6日表示，將擴大對荷蘭芯片設備製造商阿斯麥(ASML)的1970i和1980i 深紫外(DUV)浸沒式光刻機的出口限制，使其同去年美國單方面發布的出口限制相一致。中方對此表示「不滿」。

據路透社報導，中國商務部9月8日發布聲明，針對荷蘭政府擴大對光刻機出口管制的決定「表示不滿」，指責美國「脅迫個別國家」加嚴管制。

中共一直批評華盛頓向荷蘭和日本等盟國施壓，要求它們加入針對中共獲取尖端芯片及芯片製造設備的出口管制。

中國商務部發言人還說，荷蘭方面不應濫用出口管制措施，應避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，並應切實維護「中荷企業和雙方共同利益」。

據美國消費者新聞與商業頻道（CNBC）報導，荷蘭貿易部長雷內特•克萊弗（Reinette Klever.）表示這是 「為了我們的安全」，「荷蘭在這一領域擁有獨特的領先地位。這需要我們認真對待的某些責任。荷蘭半導體產業需要知道自己可以期待什麼。我們以謹慎和有針對性的方式行事，以儘量減少對全球貿易流和價值鏈的干擾，」克萊弗說。

阿斯麥已經在官網表示，荷蘭政府公布的出口新規9月7日開始生效，根據更新後的許可要求，並據美國出口管理條例，ASML需要向荷蘭政府而非美國政府申請出口許可。該公司強調這只是」技術上的變化「，「不會對我們2024年的財務前景或長期設想產生影響」。

阿斯麥已警告中國客戶，從2024年起不預期再交付這些設備。

路透社報道稱，在荷蘭宣布新決定的前一天，美國公布更新出口規則，收緊對量子計算和半導體製造設備等關鍵技術的出口管制。荷蘭更新的相關條款中採用了美國的措辭。

美國商務部在一份聲明中說：「隨着具有軍事應用的關鍵技術不斷湧現和發展，對其動向進行監管的必要性也日益增加，以確保這些品項不被用於違反美國國家安全或外交政策的目的。」