美司法部起诉一名中国商人 涉盗取半导体商业机密

美国司法部2月26日发布声明,称现年64岁、居住在香港的中国商人吴志龙(Chi Lung Winsman Ng)于25日遭到起诉。他被指涉嫌在2017至2018年期间,串谋窃取美国通用电气(General Electric)价值数百万美元的碳化硅MOSFET技术等商业机密。

美国司法部国家安全事务助理部长德默斯(John C. Demers)在声明中说,“吴志龙和他的同谋者被指选择窃取他们缺乏时间、人才或金钱创造的东西。为了外国公司的利益而窃取美国知识产权,剥夺了美国公司的创意成果,剥夺了美国工人的工作。司法部将尽其所能,破坏这种非法的、破坏经济的行为。”

据检方的起诉书称,大约在2017年3月至2018年1月期间,吴志龙和至少一名同谋策划开发一项业务,利用从通用电气公司窃取的商业机密生产和销售碳化硅(MOSFET)。据悉,碳化硅即碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管,是一种小型的电子半导体/开关,可以调节电力在设备中的流动,用于各种产品当中。

起诉书称,吴与至少另外一人合谋,后者是一名在通用电气公司工作了7年的工程师。他们被指同谋窃取了该公司的碳化硅商业机密和其它专有信息。吴和其同谋之一利用这些商业秘密制定了一份商业计划,并制作了PowerPoint演示文稿,交给潜在的投资者。二人向潜在投资者表示,他们的企业可以在三年内盈利,并估价将拥有有形和无形资产价值1亿美元。

作为该计划的一部分,二人寻求约3000万美元的资金投资,以换取他们创业公司的所有权股份。据称,2017年8月,吴和一名同谋在中国会面,并向一家考虑向其初创公司提供资金的中国投资公司作了介绍。

司法部声明说,吴志龙尚未被捕。据该声明,吴一旦被定罪,将面临最高10年监禁和最高25万美元罚款。

纽约北区联邦检查官伊丽莎白·库姆(Elizabeth C. Coombe)在声明中说:“如起诉书所指,吴志龙串谋从通用电气窃取商业机密,以成为竞争对手。” 

库姆说:“这方面的谋算,以及其他类似的计划是试图损害美国的创造力,而这通常取决于保持技术进步的机密性。” 

库姆说,她将继续与联邦调查局合作,追究那些试图从她所在辖区内的创新公司那里窃取商业机密的人。”

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